将基片放入真空室内，以电阻、电子束、激光等方法加热膜料，使膜料蒸发或升华，气化为具有一定能量（0.1～0.3eV）的粒子（原子、分子或原子团）。气态粒子以基本无碰撞的直线运动飞速传送至基片，到达基片表面的粒子一部分被反射，另一部分吸附在基片

在真空室内，基片被置于加热的膜料之下，通过电阻、电子束或激光等方式，将膜料加热至蒸发或升华状态，从而产生具有一定能量的粒子，如原子、分子或原子团。这些气态粒子以高速直线运动的方式传输至基片表面，其中一部分被反射，而另一部分则吸附在基片上，并开始进行表面扩散。随着时间的推移，这些吸附的粒子不断地与扩散粒子相互碰撞，形成簇团，并逐渐增大。当聚集的粒子数达到一定临界值时，它们就会形成稳定的核，并继续吸附扩散粒子，逐步长大。最终，通过相邻稳定核的接触和合并，连续薄膜得以形成。